測量玻璃基板的厚度及曝光光罩的高度
透過使用鏡面反射式 CMOS 雷射位移感測器 CD33-L30，僅需單一設定即可同時進行曝光掩模高度控制與玻璃厚度測量。 首先測量與曝光掩模之間的距離以調整最佳高度；隨後，當玻璃基板從上方通過時，即進行厚度測量。針對高透光率的玻璃基板，可從單側測量 0.7 毫米或更厚的厚度，無需採用對向配置的雙感測器佈局。
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透過使用鏡面反射式 CMOS 雷射位移感測器 CD33-L30，僅需單一設定即可同時進行曝光掩模高度控制與玻璃厚度測量。 首先測量與曝光掩模之間的距離以調整最佳高度；隨後，當玻璃基板從上方通過時，即進行厚度測量。針對高透光率的玻璃基板，可從單側測量 0.7 毫米或更厚的厚度，無需採用對向配置的雙感測器佈局。